特許
J-GLOBAL ID：200903062322506911

低濃度グラウト工法

発明者：
宮永 佳晴

宮永 佳晴 について


出願人/特許権者：
有限会社 ドリームドーム・ラボ

有限会社 ドリームドーム・ラボ について


代理人 (3件)： 藤本 英介 ,  神田 正義 ,  宮尾 明茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-126617
公開番号（公開出願番号）：特開2006-299741
出願日： 2005年04月25日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】 トンネル、立坑、ダム等の透水性岩盤に設ける構造物の止水をする際に、止水材料の注入範囲を拡大し、細かい亀裂にも充填できるようにして構造物周囲の岩盤に高い止水効果を得ることができる低濃度グラウト工法を提供する。【解決手段】 トンネル周囲の岩盤にセメントミルクを注入するためのグラウト孔を複数ボーリング等によって形成し、その後、セメント/水の比が1/30〜1/500のセメントミルクを複数孔のうちの第1の孔に注入しかつ第2のグラウト孔から余剰水を排水する工程と、第2の孔にセメントミルクを注入しかつ第1の孔または他の孔から余剰水を排水する工程とを複数孔に対して順次行う。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
ダム、トンネルまたは立坑等の構造物を透水性岩盤に設ける際に、その岩盤に止水材を注入してその岩盤から湧水等の水が浸入するのを止めるグラウト工法において、 構造物周囲の岩盤内にセメント/水が1/30〜1/500の割合のセメントミルクからなる止水材を注入して、当該岩盤内に止水領域を形成することを特徴とする低濃度グラウト工法。
IPC (1件)：
E02D 3/12
FI (1件)：
E02D3/12 101
Fターム (9件)：
2D040AA04 ,  2D040AB01 ,  2D040AC01 ,  2D040BB09 ,  2D040CA01 ,  2D040CB03 ,  2D040DA19 ,  2D040DB04 ,  2D040DC02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
  • 特開昭58-213912
  • 特開昭56-111713
  • 注入材
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-234831   出願人：太平洋マテリアル株式会社
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引用文献：
審査官引用 (2件)
  • 土木技術者のための岩盤力学, 196611, P.336〜343
  • セメント薬液注入工法, 196408, 4版, P.87〜89

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