特許
J-GLOBAL ID：200903062356199139
位置決め方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-178630
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036202
出願日： 1995年07月14日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ上のサーチマークの配置に制約を課すことなく、且つ高速にウエハのサーチアライメントを行う。【解決手段】 先頭のウエハに対して第1のアライメントセンサを用いて第1、及び第2サーチマーク47A,47Bの位置を検出し、検出結果よりサーチマークを基準とした座標系を求めた後、第1のアライメントセンサで第1サーチマーク47Aを検出している状態で、第2のアライメントセンサで検出されるストリートライン領域70の位置を記憶する。2枚目以降のウエハに対しては、第1のアライメントセンサで第1サーチマーク47Aを検出している状態で第2のアライメントセンサでストリートライン領域70の位置を検出し、検出結果と記憶してある位置とのずれ量に基づいてサーチマークを基準とした座標系を求める。
請求項（抜粋）：
2次元的に移動自在な基板ステージ上に保持された実質的に円形で外周部の一部が切り欠かれた感光基板上にマスクパターンを転写する際の前処理工程として、前記基板ステージ上に前記感光基板を位置決めするための位置決め方法において、前記感光基板を前記基板ステージの上方の所定の受け渡し点に搬送し、該受け渡し点で前記感光基板の外周部の前記切り欠かかれた部分に設定された1箇所の計測点、及び前記感光基板の外周部の他の1箇所以上の計測点の位置をそれぞれ非接触に計測し、該計測結果に基づいて前記感光基板の回転誤差を算出し、該算出された回転誤差を相殺するように前記感光基板を回した後、前記感光基板を前記基板ステージ上に載置することを特徴とする位置決め方法。
IPC (5件)：
H01L 21/68
, G01B 11/00
, G02F 1/13 101
, G05D 3/12
, H01L 21/027
H01L 21/68 F
, G01B 11/00 C
, G02F 1/13 101
, G05D 3/12 H
, H01L 21/30 502 Z
, H01L 21/30 520 A
