特許
J-GLOBAL ID:200903062377963777

膜厚測定装置及びその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-337765
公開番号(公開出願番号):特開2002-141274
出願日: 2000年11月06日
公開日(公表日): 2002年05月17日
要約:
【要約】【課題】 膜厚測定装置において、工程数を減少させ、測定作業を容易にすること。【解決手段】 ウエハWを保持する載置部6と、光源54と分光器55とを含む分光器ユニット53と、前記載置部6と対向するように設けられ、前記分光器ユニット53と光ファイバ52で接続されるプローブ51と、前記載置部6と前記プローブ51とを相対的に移動させる駆動部42とを備えた膜厚測定ユニット4において、前記載置部6のプローブ51と対向する面に、一部が前記プローブ51と対向するように反射体62を埋設する。レジスト膜の膜厚を測定する前に、前記反射体62の反射スペクトルAを測定し、当該スペクトルAとセットアップ時に測定した反射体62の基準スペクトルとを比較してキャリブレーションを行うようにすると、ベアシリコンウエハの搬送が不要となり、工程数が減少する。
請求項(抜粋):
基板を薄膜形成面を上にした状態で略水平に保持する載置部と、光源と分光器とを含む分光器ユニットと、前記載置部の基板載置面と対向するように設けられ、前記分光器ユニットと光ファイバで接続されるプローブと、前記載置部と前記プローブとを相対的に略水平方向に移動させる駆動部と、を備え、前記基板の前記薄膜形成面に光を照射して反射光のスペクトルを得、このスペクトルに基づいて膜厚を検出する膜厚測定装置において、前記載置部に基板が載置されたときにこの基板と衝突しないように、当該載置部の基板載置面に一部が前記プローブと対向するように反射体を埋設し、基板上に形成された薄膜の膜厚を測定する前に、前記反射体と前記プローブとを対向させて反射体に光を照射し、この反射光のスペクトルを測定することを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G01B 11/06
FI (3件):
G01B 11/06 G ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (21件):
2F065AA30 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG24 ,  2F065LL02 ,  2F065LL67 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ25 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA04 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18
引用特許:
審査官引用 (5件)
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