特許
J-GLOBAL ID：200903062406446590

露光用マスク、及び薄膜トランジスタの製造方法

発明者：
宮田 崇

宮田 崇 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-279959
公開番号（公開出願番号）：特開2009-109610
出願日： 2007年10月29日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：
【課題】階調付きレジスト膜を高精度に形成する。【解決手段】露光用マスクは、透明基板(100)と、この透明基板上に所定の繰り返しパターンである第1パターンで形成された第1パターン部分(110b)を有する遮光膜(110)と、透明基板上における第1パターン部分が形成された第1パターン領域(R2)を含む領域に形成され、露光光を透過する透過率が遮光膜より高い半透明膜(120)とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透明基板と、 該透明基板上に所定の繰り返しパターンである第1パターンで形成された第1パターン部分を有する遮光膜と、 前記透明基板上における前記第1パターン部分が形成された第1パターン領域を含む領域に形成され、露光光を透過する透過率が前記遮光膜より高い半透明膜と を備えたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (5件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/266
FI (5件)：
G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P ,  H01L29/78 616A ,  H01L29/78 627C ,  H01L21/265 M
Fターム (22件)：
2H095BB25 ,  2H095BC01 ,  2H095BC04 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110EE09 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG47 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL03 ,  5F110HL05 ,  5F110HL22 ,  5F110NN03 ,  5F110QQ02 ,  5F110QQ11
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM