基板の上にマスクを結像させる方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：川口義雄 , 一入章夫 , 小野誠 , 大崎勝真 , 坪倉道明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-582582
公開番号（公開出願番号）：特表2005-527848
出願日： 2003年04月11日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

本発明は、基板2の上にマスク1を結像させる方法に関するものであり、照明ユニット8と光学ユニット9によってマスク1が基板2の上で結像される。さらに本発明は、この方法を実施する装置も対象としている。この方法および装置は、マスク1およびその小さい構造が、基板2の上に高い機能信頼度で正確に結像されるように構成されるのが望ましく、基板2の歪みが修正されるのが望ましい。照明ユニット8および光学ユニット9が、マスク1および基板2に対して相対的に移動し、基板2の変形が検出され、検出された変形に応じて、光学ユニット9によりマスク1の結像が変形されて、基板2の変形に適合化されることが提案される。

請求項（抜粋）：

基板(2)の上にマスク(1)を結像させる方法であって、照明ユニット(8)と光学ユニット(9)によって、マスク(1)が基板(2)の上に結像され、照明ユニット(8)と光学ユニット(9)が、マスク(1)および基板(2)に対して相対的に移動し、基板(2)の変形が検出され、検出された変形に応じて、光学ユニット(9)によりマスク(1)の結像が変形されて、基板(2)の変形に適合化されることを特徴とする、方法。

IPC (2件)：

G03F9/00 , G03F7/20

FI (2件)：

G03F9/00 A , G03F7/20 505

Fターム (13件)：

2H097AA07 , 2H097AB09 , 2H097BA10 , 2H097BB01 , 2H097CA05 , 2H097CA17 , 2H097GB02 , 2H097KA14 , 2H097KA20 , 2H097KA23 , 2H097KA29 , 2H097LA09 , 2H097LA11

引用特許：

審査官引用 (5件)

走査型露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-232963 出願人：株式会社ニコン
投影光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-284371 出願人：株式会社ニコン
特開平2-281232

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