露光装置における露光方法及び露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：千葉剛宏 , 宮寺利幸 , 鹿島直樹 , 田久保泰夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-093365
公開番号（公開出願番号）：特開2008-250139
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】高価なマスクを使用することなく、連続的に膜厚ローカリティを原因とするエッチング後線幅ローカリティを補正する。【解決手段】薄膜が形成された基板上に塗布したレジストを画像データによりオンオフ制御される露光機80により走査露光した後、現像、エッチングを行い薄膜による所望の線幅のパターンを形成する際、露光前に、基板上各位置のレジスト膜厚を測定し、予め求めておいた、露光前のレジスト膜厚とエッチング後の線幅補正量との関係に、測定した基板上各位置のレジスト膜厚を反映させて、基板上各位置の線幅補正量を決定する。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

基板に形成された薄膜上に塗布したレジストを、画像データによりオンオフ制御される露光機により走査露光した後、現像、エッチングを行い前記薄膜による所望の線幅のパターンを形成する露光装置における露光方法において、露光前に、前記基板上のレジスト膜厚を測定するレジスト膜厚測定ステップと、予め求めておいた、露光前のレジスト膜厚とエッチング後の線幅補正量との関係から、測定した露光前のレジスト膜厚に対するエッチングの線幅補正量を決定する線幅補正量決定ステップと、決定した線幅補正量により、前記所望の線幅とするための補正ステップと、を有することを特徴とする露光装置における露光方法。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (5件)：

2H097AA03 , 2H097BA10 , 2H097BB01 , 2H097JA04 , 2H097LA11

引用特許：

出願人引用 (2件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-175502 出願人：キヤノン株式会社
露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-028884 出願人：富士写真フイルム株式会社

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