特許

J-GLOBAL ID：200903062641544770

ウェーハチャック装置及びウェーハ洗浄システム

発明者： 小林 健司 ,  斉藤 敏一
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社 ,  三益半導体工業株式会社
代理人 (1件)： 石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-112371
公開番号（公開出願番号）：特開平11-301849
出願日： 1998年04月22日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：

【要約】【課題】搬送機構の簡便化、装置サイズの縮小化を可能として装置コストの増大を抑制し、搬送時の発塵によるパーティクル汚染を低減できるようにしたウェーハチャック装置を提供する。【解決手段】内部に空気流路を形成した基体部と、該基体部先端部に形成された開口部から外方に突出するように該基体部に揺動可動に装着されたチャック部材と、該チャック部材の中央部に外方に開口するように設けられ該空気流路と連通する吸着孔と、該基体部後端部に開穿され該空気流路と連通する吸引孔と、該吸引孔と連通する空気吸引手段とを有するようにした。

請求項（抜粋）：

内部に空気流路を形成した基体部と、該基体部先端部に形成された開口部から外方に突出するように該基体部に揺動可動に装着されたチャック部材と、該チャック部材の中央部に外方に開口するように設けられ該空気流路と連通する吸着孔と、該基体部後端部に開穿され該空気流路と連通する吸引孔と、該吸引孔と連通する空気吸引手段とを有することを特徴とするウェーハチャック装置。

IPC (3件)：

B65G 49/07 ,  B25J 15/06 ,  H01L 21/304 648

FI (3件)：

B65G 49/07 G ,  B25J 15/06 N ,  H01L 21/304 648 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薄板状ワークの吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-285460   出願人：株式会社メックス
• 基板姿勢転換装置及び基板受渡し装置並びにそれを用いた基板湿式処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-155130   出願人：大日本スクリーン製造株式会社