水処理システム

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-053299
公開番号（公開出願番号）：特開2007-229598
出願日： 2006年02月28日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：

【課題】均一な紫外線照射を行うことにより消毒性能を確保し、一部の紫外線ランプや保護管に異常が発生したとき、その影響を極力軽減化することにある。【解決手段】円筒状の容器10内に容器軸と平行に保護管16に収納した複数本の紫外線ランプ15-1〜15-6が配置され、前記容器10内の上部から下部方向へ旋回流しながら下降する被処理流体に対し前記紫外線ランプから紫外線を照射する紫外線照射装置1と、容器10内部の紫外線照度を測定する照度測定手段6-1〜6-3と、容器10に流入する被処理流体の所定流量と前記照度測定手段で測定された照度とに基づいて紫外線照射量を決定する紫外線照射量決定手段8Aを有する浄水処理監視制御装置8とを設けた水処理システムである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

紫外線照射を利用して浄化処理を行う水処理システムにおいて、円筒状の容器内に容器軸と平行に保護管に収納した複数本の紫外線ランプが配置され、前記容器内の上部から下部方向へ旋回しながら下降する被処理流体に対し前記紫外線ランプから紫外線を照射する紫外線照射装置と、前記容器内部の紫外線照度を測定する照度測定手段と、前記容器に流入する被処理流体の所定流量と前記照度測定手段で測定された照度とに基づいて紫外線照射量を決定する紫外線照射量決定手段を有する浄水処理監視制御装置とを備えたことを特徴とする水処理システム。

IPC (1件)：

C02F 1/32

FI (1件)：

C02F1/32

Fターム (5件)：

4D037AA01 , 4D037AB03 , 4D037BA18 , 4D037BB01 , 4D037BB02

引用特許：

出願人引用 (8件)

特願2005-319820号公報
紫外線照射水処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-347069 出願人：株式会社東芝
水中プランクトンの殺藻処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-345120 出願人：九州電力株式会社

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審査官引用 (4件)

浄水装置及びそれを用いた温水プール浄水システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-246146 出願人：島田電子工業有限会社
紫外線殺菌装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-026461 出願人：東陶機器株式会社
紫外線ランプを含む水処理設備
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-356995 出願人：オルガノ株式会社

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