特許
J-GLOBAL ID：200903062825767461
フォトマスク設計方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150000
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234500
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 レベンソン型位相シフトマスクの設計において、シフターを自動的に配置し、出来るだけ集積度を上げた最終的なレイアウトを自動的に作成し、設計効率を大幅に向上する。【構成】 複数の透明領域及び不透明領域が形成されているフォトマスクの透明領域上に、透明領域を透過する入射光に180°の位相差を与える位相シフターを設けたフォトマスクのレイアウトを設計するフォトマスク設計方法に於いて、隣接透明領域間の距離を任意に設定した第1のレイアウトデータを作成し、この第1のレイアウトデータ中で隣りあっている透明領域を透過する光の位相差が互いに180°になる領域及び位相差が互いに0°となる領域を決定し、この第1のレイアウトに基づき前記位相差180°で隣合う透明領域は透明領域間の距離をS1、前記位相差0°で隣合う透明領域は透明領域間の距離をS2に設定し、S1<S2なる関係を満足する第2のレイアウトデータを作成するようにしてある。
請求項（抜粋）：
複数の透明領域及び不透明領域が形成されているフォトマスクの透明領域上に、透明領域を透過する入射光に180°の位相差を与える位相シフターを設けたフォトマスクのレイアウトを設計するフォトマスク設計方法に於いて、隣接透明領域間の距離を任意に設定した第1のレイアウトデータを作成し、この第1のレイアウトデータ中で隣りあっている透明領域を透過する光の位相差が互いに180°になる領域及び位相差が互いに0°となる領域を決定し、この第1のレイアウトに基づき前記位相差180°で隣合う透明領域は透明領域間の最短距離をS1、前記位相差0°で隣合う透明領域は透明領域間の最短距離をS2というデザインルールに基づきレイアウト圧縮(コンパクション)し、S1<S2なる関係を満足する第2のレイアウトデータを作成することを特徴とするフォトマスク設計方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
