特許

J-GLOBAL ID：200903062849070550

転写層にパターンを形成する方法

発明者： 浅川 昭彦 ,  川口 泰秀
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-019953
公開番号（公開出願番号）：特開2006-210601
出願日： 2005年01月27日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】所望のパターンが形成された転写層を形成する方法を提供する。【解決手段】フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレンおよびヘキサフルオロプロピレンからなる群から選ばれる少なくとも1種のフルオロオレフィンに基づく繰り返し単位と架橋性基とを含む熱可塑性の含フッ素重合体を含有する転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを押し付けて転写層に所望パターンを形成する工程および該モールドを転写層から離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレンおよびヘキサフルオロプロピレンからなる群から選ばれる少なくとも1種のフルオロオレフィンに基づく繰り返し単位と炭化水素系モノマーに基づく繰り返し単位とを含む熱可塑性の含フッ素重合体を含有する転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを押し付けて転写層に所望パターンを形成する工程および該モールドを転写層から離脱させる工程を具備することを特徴とする転写層にパターンを形成する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B81C 1/00

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B81C1/00

Fターム (15件)：

4F209AA16 ,  4F209AC05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC08 ,  4F209PH21 ,  4F209PH27 ,  4F209PJ06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-513006   出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-385458   出願人：松下電器産業株式会社