特許
J-GLOBAL ID：200903062876142938

粒子線治療装置

発明者：
品川 亮介

品川 亮介 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-051478
公開番号（公開出願番号）：特開2007-229025
出願日： 2006年02月28日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】イオンビームの照射位置精度を向上させ、回転ガントリーの回転駆動装置を小型化する。【解決手段】粒子線治療装置の照射野形成装置28は、一対の走査電磁石32,33、及び走査電磁石32,33に取り囲まれている不活性ガスチェンバ1を有する。Heガスがガスボンベ8からガス供給管15を通してチェンバ1に供給される。圧力コントローラ5は差圧計4で計測されたチェンバ1内外の圧力差を基にHeガス流量を決定する。流量制御装置6は、そのガス流量に基づいて流量調整弁7の開度を制御し、チェンバ1に供給するHeガス量を調節する。Heガスがチェンバ1内に供給され続け、バリアブルリークバルブ12及びオリフィス14が設けられたガス排出管16を通って外部に排出される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
イオンビーム発生装置と、前記イオンビーム発生装置で発生したイオンビームが導かれる照射装置とを備え、 前記照射装置が、走査電磁石と、走査電磁石に取り囲まれた不活性ガスチェンバと、前記不活性ガスチェンバ内に不活性ガスを供給するガス供給管と、前記ガス供給管に向けられた流量調節弁と、前記不活性ガスチェンバ内の圧力に基づいて前記流量調節弁の開度を制御する制御装置とを有していることを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1件)：
A61N 5/10
FI (2件)：
A61N5/10 H ,  A61N5/10 J
Fターム (8件)：
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG31 ,  4C082AG54
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 荷電粒子ビーム装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-261605   出願人：株式会社日立製作所
審査官引用 (4件)
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