特許
J-GLOBAL ID：200903062895277461
開放気孔型多孔体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀田 実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-191401
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040478
出願日： 1995年07月27日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：
【要約】【課題】 傾斜化された開放気孔型多孔積層体への微細孔層の形成を均一かつ安定にするとともに、その粒子の配置などの最適化を図ることができる開放気孔型多孔体の製造方法を提供する。【解決手段】 細孔径が表面に向かって順次小さくなるように傾斜化された開放気孔型多孔積層体の表面に微細孔膜または表面から僅かな深さに渡って微細孔層を有する開放気孔型多孔体の製造方法であって、その開放気孔型多孔積層体の表面に、気相化学反応法、真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかのうち少なくとも1つの方法で薄膜または表層を形成することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
細孔径が表面に向かって順次小さくなるように傾斜化された開放気孔型多孔積層体の表面に微細孔膜または表面から僅かな深さに渡って微細孔層を有する開放気孔型多孔体の製造方法であって、その開放気孔型多孔積層体の表面に、気相化学反応法、真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかのうち少なくとも1つの方法で薄膜または表層を形成することを特徴とする開放気孔型多孔体の製造方法。
IPC (2件)：
C04B 38/00 304
, C04B 41/87
C04B 38/00 304 Z
, C04B 41/87 E
