特許
J-GLOBAL ID：200903062978952470
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-310723
公開番号（公開出願番号）：特開平11-143052
出願日： 1997年11月12日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 現実のフォトマスクが有するパターンコーナ部の微妙な変化を考慮したマスクパターンの検査を行う。【解決手段】 設計データを多値階調パターン展開回路8により多値階調パターンデータに展開し、さらにコーナ丸め回路7で、現実のパターンを近似するようにコーナ部を丸め、これと測定データと欠陥判定回路6で比較する。コーナ丸め回路はコーナ検出回路と、外部より指定されるコーナ丸め量から丸め処理可能な大きさか否かを判断するコーナ大きさ判断回路と、コーナ部の種類、方向、大きさをもとに丸めデータを発生する丸めデータ発生回路と、多値階調パターンデータのコーナ部の丸め処理を行う丸め処理回路から構成されている。
請求項（抜粋）：
光学的に測定して得られた検査対象の測定データと、設計データから得られたパターンデータとを比較する装置であって、設計データを多値階調パターンデータに展開する多値階調パターンデータ展開回路と、該多値階調パターンデータに対しパターンのコーナ部の丸め処理を行うコーナ丸め回路とを少なくとも具備したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
G03F 1/08 S
, G01B 11/24 F
, G01N 21/88 E
, H01L 21/30 502 V
