特許
J-GLOBAL ID：200903063005825366

ホトレジスト組成物、液晶パネル用スペーサの形成方法、液晶パネル用スペーサ、及び液晶パネル

発明者：
青木 知三郎

青木 知三郎 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-070953
公開番号（公開出願番号）：特開2005-258173
出願日： 2004年03月12日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】スペーサ用ビーズを基板上に選択的に形成する技術において、ビーズに対して良好な接着性を有し、レジスト残りの生じにくい技術を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)下記一般式(I)[R1は、アルキレン基、又は下記一般式(II)(R2は、アルキレン基、mは0又は1を表す)で表される基のいずれかを示す]で表される化合物との反応生成物、(C)放射線の照射により酸成分を発生する化合物、及び(D)ビーズ、を含有してなるホトレジスト組成物を用いて、基板のブラックマトリックスパターンの上にビーズを接着する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)下記一般式(I)
IPC (6件)：
G03F7/039 ,  C08F2/44 ,  C08F291/00 ,  G02F1/1339 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  C08F2/44 C ,  C08F291/00 ,  G02F1/1339 500 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 511
Fターム (53件)：
2H025AA14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CC08 ,  2H025FA04 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H089LA07 ,  2H089LA16 ,  2H089MA04X ,  2H089NA06 ,  2H089NA12 ,  2H089NA14 ,  2H089NA17 ,  2H089PA02 ,  2H089QA02 ,  2H089QA12 ,  2H089QA14 ,  2H089QA16 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA15 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J011PA29 ,  4J011PA43 ,  4J011PA44 ,  4J011PA45 ,  4J011PA65 ,  4J011PA69 ,  4J011PA85 ,  4J011PB06 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011QA11 ,  4J011QA33 ,  4J011QA45 ,  4J011RA03 ,  4J011RA10 ,  4J011WA01 ,  4J026AA20 ,  4J026AA43 ,  4J026AB01 ,  4J026AC36 ,  4J026BA17 ,  4J026DB06 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026GA09
引用特許：
出願人引用 (5件)
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