特許

J-GLOBAL ID：200903063039971655

小型環境の制御システムおよび方法

発明者： エリツク・シユバリエ ,  ロラン・ベルナール
出願人/特許権者： アルカテル
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-374250
公開番号（公開出願番号）：特開2001-223263
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】 サンプルの処理または使用条件にできるだけ近く制御された環境にサンプルを配置かつ保存できる小型環境の制御システムおよび方法を提供する。【解決手段】 本発明による装置は、サンプル3を収容して外部から隔離するための個別のエンクロージャ1を含む。個別のエンクロージャ1に結合されるマイクロポンプアレイ5が、個別のエンクロージャ1内に制御された真空を発生して維持する。搬送手段6により、個別のエンクロージャ1にサンプル3を出し入れ可能である。マイクロポンプアレイ5のマイクロポンプは、熱遷移作用により作動するタイプとすることができる。マイクロ温度センサ8、マイクロ圧力センサ9およびガス分析器10は、搭載されたマイクロコンピュータ11を介してマイクロポンプアレイ5の動作を制御可能である。

請求項（抜粋）：

制御された真空下で個別のエンクロージャに個々にサンプルの搬送を行うサンプル搬送ステップを含む、サンプルのテスト方法または、エッチングおよび堆積によるサンプルの加工方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

H01L 21/68 U ,  B65G 49/00 A ,  H01L 21/66 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-041873   出願人：株式会社日立製作所
• 搬送容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-176960   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日本製鋼所