特許
J-GLOBAL ID：200903063256006089

錯体形成基を有する多孔性中空糸膜及び該多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法

発明者：
斎藤 恭一

斎藤 恭一 について

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佐藤 克行

佐藤 克行 について

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秋葉 光雄

秋葉 光雄 について


出願人/特許権者：
株式会社浅井ゲルマニウム研究所

株式会社浅井ゲルマニウム研究所 について


代理人 (1件)： 小林 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-327003
公開番号（公開出願番号）：特開2007-181816
出願日： 2006年12月04日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【課題】廃棄物のゲルマニウムを回収することのできる多孔性中空糸膜、及びこの多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法を提供する。【解決手段】ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に、放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式:又は、シス-1,2-ジオール構造で表される構造を含む残基を与える化合物とを反応させて得られる、キレート形成を有する多孔性中空糸膜及びこの多孔性中空糸膜と酸化ゲルマニウムを含有する水溶液を接触させて捕集した酸化ゲルマニウムを酸性溶液で溶出させて、酸化ゲルマニウムを回収する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式
IPC (9件)：
B01J 45/00 ,  B01J 47/12 ,  B01J 49/00 ,  B01J 20/26 ,  B01J 20/34 ,  C02F 1/42 ,  D06M 15/273 ,  D06M 14/28 ,  C01G 17/02
FI (10件)：
B01J45/00 S ,  B01J47/12 Z ,  B01J49/00 Z ,  B01J20/26 E ,  B01J20/34 G ,  C02F1/42 H ,  B01J45/00 R ,  D06M15/273 ,  D06M14/28 ,  C01G17/02
Fターム (18件)：
4D025AA09 ,  4D025AB33 ,  4D025BA17 ,  4D025BA27 ,  4G066AB12D ,  4G066AD11D ,  4G066AD15D ,  4G066BA03 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08 ,  4G066FA31 ,  4G066GA11 ,  4L033AA05 ,  4L033AB02 ,  4L033AC15 ,  4L033BA46 ,  4L033CA21 ,  4L033DA06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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