特許

J-GLOBAL ID：200903063294930750

3次元形状測定装置

発明者： 藤井 章弘
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (2件)： 篠原 泰司 ,  藤中 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-101168
公開番号（公開出願番号）：特開2004-309240
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】測定標本の計測エリアに影を生じることがなく、測定標本の表面形状に影響されず、輝度が飽和しない状態で、高精度に計測を行うことが可能な3次元形状測定装置を提供する。【解決手段】光源1,11と、所定のパターンを有する光学変調素子3,13と、異なる方向から被検査物体S上にパターンを投影する複数の投影光学系4,14と、被検査物体S上に投影されたパターン像を撮像素子6に結像する結像光学系5と、複数の投影光学系4,14を経て得られる夫々のパターン画像の各画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較する比較部72と、比較部72で該パターン画像の所定画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較した結果、コントラスト成分が最も大きい投影光学系からの輝度値を基に高さ情報を演算する演算部73と、を有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光源と、所定のパターンを有する光学変調素子と、前記光源からの光が前記光学変調素子に照射されることによってできたパターン像を被検査物体に投影する投影光学系と、前記被検査物体上に投影されたパターン像を撮像素子に結像する結像光学系を有し、前記撮像素子により検出されたパターン像の変形量から被検査物体の高さ情報を求めるパターン投影法による3次元形状測定装置であって、 異なる方向から被検査物体上にパターンを投影して、該異なる方向から投影したパターン像を前記結像光学系を介して前記撮像素子に結像させることができるように、前記投影光学系を複数有するとともに、 該複数の投影光学系を経て得られる夫々のパターン画像の各画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較する比較部と、 前記比較部で該パターン画像の所定画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較した結果、コントラスト成分が最も大きい投影光学系からの輝度値を基に高さ情報を演算する演算部と、 を有することを特徴とする3次元形状測定装置。

IPC (2件)：

G01B11/24 ,  G01B11/25

FI (2件)：

G01B11/24 K ,  G01B11/24 E

Fターム (19件)：

2F065AA24 ,  2F065AA53 ,  2F065DD04 ,  2F065FF06 ,  2F065GG02 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065LL41 ,  2F065LL65 ,  2F065MM16 ,  2F065NN08 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 突合せ位置検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-120955   出願人：新日本製鐵株式会社
• 高さ測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-226269   出願人：株式会社ニコン