特許
J-GLOBAL ID:200903063333505115

荷電粒子線のビーム軸調整装置及び照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高矢 諭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-207327
公開番号(公開出願番号):特開2003-135608
出願日: 2002年07月16日
公開日(公表日): 2003年05月13日
要約:
【要約】【課題】 二重散乱体入射方式で精度の良い線量分布を短時間で得て、治療照射中でもリアルタイムで線量分布を調整可能とする。【解決手段】 荷電粒子系のビーム輸送系に設けられたビーム位置検出器26と、その入側に設けられたステアリング電磁石24X、24Yあるいは偏向電磁石(27)を備えたビーム軸調整装置22により、ビーム軸の精度を保証し、線量分布のモニタ20Dの測定結果をもとに第2散乱体20Bの位置を微調整することで平坦な線量分布を確保する。
請求項(抜粋):
荷電粒子線のビーム輸送系に設けられたビーム位置検出器と、該ビーム位置検出器の出力に応じてビーム軸の位置を調整するための、該ビーム位置検出器の入側に設けられた、ビーム軸の位置を調整可能なステアリング電磁石あるいは偏向電磁石からなるステアリング手段と、を備えたことを特徴とする荷電粒子線のビーム軸調整装置。
IPC (6件):
A61N 5/10 ,  G21K 1/093 ,  G21K 5/04 ,  G21K 5/10 ,  H01J 37/04 ,  H05H 7/04
FI (7件):
A61N 5/10 H ,  G21K 1/093 D ,  G21K 5/04 A ,  G21K 5/04 C ,  G21K 5/10 M ,  H01J 37/04 B ,  H05H 7/04
Fターム (14件):
2G085AA11 ,  2G085BA14 ,  2G085CA20 ,  2G085CA26 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG09 ,  4C082AG11 ,  4C082AG12 ,  4C082AG52 ,  5C030AA07 ,  5C030AA08 ,  5C030AB06
引用特許:
審査官引用 (5件)
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