特許
J-GLOBAL ID：200903063417819182

粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法

発明者：
松井 功

松井 功 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-039416
公開番号（公開出願番号）：特開2004-250727
出願日： 2003年02月18日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】粒径の揃った粒子堆積層を比較的少ない工程数で形成可能な粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法を提供すること。【解決手段】本発明の粒子堆積層形成1は、原料ガスが供給される反応室22と、排気口25が設けられた後室23と、前記後室23内に配置され且つ基板4を保持可能なホルダ3と、前記反応室22内にプラズマを生じさせるプラズマ発生装置5と、前記ホルダ3に前記基板4を保持したまま前記プラズマの発生と消滅とが交互に及び繰り返し切り替わるように前記プラズマ発生装置5の動作を制御する制御部6とを具備し、前記原料ガスを反応させることにより粒子を生成し、前記粒子をその粒子としての形態を維持したまま前記基板4上に堆積させることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料ガスが供給される反応室と、 排気口が設けられた後室と、 前記後室内に配置され且つ基板を保持可能なホルダと、 前記反応室内にプラズマを生じさせるプラズマ発生装置と、 前記ホルダに前記基板を保持したまま前記プラズマの発生と消滅とが交互に及び繰り返し切り替わるように前記プラズマ発生装置の動作を制御する制御部とを具備し、 前記原料ガスを反応させることにより粒子を生成し、前記粒子をその粒子としての形態を維持したまま前記基板上に堆積させることを特徴とする粒子堆積層形成装置。
IPC (2件)：
C23C16/44 ,  H05H1/24
FI (2件)：
C23C16/44 A ,  H05H1/24
Fターム (13件)：
4K030AA11 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030AA24 ,  4K030BA01 ,  4K030BA05 ,  4K030BA06 ,  4K030BA07 ,  4K030DA02 ,  4K030FA03 ,  4K030JA11 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41
引用特許：
出願人引用 (4件)
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