特許
J-GLOBAL ID：200903063678546116
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-255785
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097422
出願日： 1997年09月19日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：
【要約】【課題】本発明はプラズマにより成膜やエッチングの処理を行なうプラズマ処理装置に関し、チャンバの洗浄周期を長くすることを課題とする。【解決手段】石英チャンバ42に誘導結合型のアンテナ44を有し、このアンテナ44に電力を供給して石英チャンバ42内にプラズマ60を発生しウエハ54を処理するプラズマ処理装置において、前記アンテナ44を形成するコイルの両端66,68と、アンテナ44の整合をとるためのマッチング回路ま46との間に、前記コイル両端66,68を電気的に切り換える切り換え回路70を設けた構成とする。
請求項（抜粋）：
チャンバに誘導結合型のアンテナを有し、該アンテナに電力を供給して該チャンバ内にプラズマを発生し半導体を処理するプラズマ処理装置において、前記アンテナを形成するコイルの両端と、アンテナの整合をとるための回路との間に、前記コイル両端を電気的に切り換える切り換え手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H05H 1/46 L
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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