特許
J-GLOBAL ID：200903063729098253

グレートーンマスク及びその製造方法

発明者：
井村 和久

井村 和久 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-395786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-196474
出願日： 2000年12月26日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：
【要約】【課題】 グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。【解決手段】 例えば、グレートーン部3と接する遮光パターン1の輪郭形状に沿って、グレートーン部3側に輪郭パターン30を形成する。
請求項（抜粋）：
遮光部と、透過部と、マスクを使用する露光機の解像限界以下のパターン寸法を有する遮光パターンを配列した領域であってこの領域を透過する露光光の透過量を低減させるグレートーン部とを有するグレートーンマスクであって、前記グレートーンマスクは、少なくとも遮光部及び/又は透過部とグレートーン部とが隣接する境界部分を有し、前記遮光部及び/又は前記透過部の輪郭形状が屈曲部分を含み、遮光部との境界にあってはその境界部分の近傍であってグレートーン部側に、あるいは透過部との境界にあってはその境界部分を含む領域又は境界部分の近傍に、前記遮光部及び/又は前記透過部の輪郭に沿ってライン状に形成された輪郭パターンを有することを特徴とするグレートーンマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (11件)：
2H095BA12 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H097BB01 ,  2H097JA02 ,  2H097LA12 ,  5F046AA26 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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