特許

J-GLOBAL ID：200903063748403733

多孔質酸化物粒子およびその製造方法

発明者： 川島 庸男 ,  中山 和洋 ,  中島 昭
出願人/特許権者： 日揮触媒化成株式会社
代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-147551
公開番号（公開出願番号）：特開2008-297183
出願日： 2007年06月02日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】 空隙率が同等な従来の多孔質粒子に比べて、粒子破壊強度が高い多孔質酸化物粒子を提供する。 【手段】 この多孔質酸化物粒子は、平均粒子径(D)2〜100nm、真球度0.9〜1の範囲にある球状酸化物微粒子が集合した球状集合体からなる平均粒子径(PD)0.5〜50μm、空隙率5〜50%の範囲にあり、前記球状酸化物微粒子の粒子径分布が、単分散またはバイモーダルである。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

平均粒子径(D)2〜100nm、真球度0.9〜1の範囲にある球状酸化物微粒子が集合した球状集合体からなる平均粒子径(PD)0.5〜50μm、空隙率5〜50%の範囲にある多孔質酸化物粒子であって、前記球状酸化物微粒子の粒子径分布が、(1)単分散、または、(2)バイモーダルであることを特徴とする多孔質酸化物粒子。

IPC (5件)：

C01B 33/18 ,  C08L 101/00 ,  C08K 7/22 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31

FI (4件)：

C01B33/18 E ,  C08L101/00 ,  C08K7/22 ,  H01L23/30 R

Fターム (37件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD04 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH18 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ21 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072TT01 ,  4G072TT04 ,  4G072TT19 ,  4G072TT20 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4J002CD021 ,  4J002CD041 ,  4J002CD051 ,  4J002CD061 ,  4J002DE096 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA096 ,  4J002FD140 ,  4J002GJ02 ,  4M109AA01 ,  4M109BA01 ,  4M109CA21 ,  4M109EB12 ,  4M109EB13 ,  4M109EB16

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭61-270201号
  
• 球状多孔質粒子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-355785   出願人：触媒化成工業株式会社
• 真球状シリカ粒子集合体、その製造方法およびそれを用いた樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-223908   出願人：宇部日東化成株式会社
• エポキシ樹脂組成物及び半導体装置素子用中空パッケージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-360597   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-168520