特許
J-GLOBAL ID:200903063789853506

研磨装置の洗浄方法と洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-093862
公開番号(公開出願番号):特開平9-283486
出願日: 1996年04月16日
公開日(公表日): 1997年10月31日
要約:
【要約】【課題】多孔質真空チャックの目詰まりを除去し、多孔質真空チャックの吸引力を均一に維持する。【解決手段】ウェーハ1を多孔質真空チャック22に吸着させて研磨を行う研磨装置の洗浄方法であり、少なくとも多孔質真空チャック22を洗浄液Lに浸漬し、超音波振動52を印加して洗浄を行う。真空引き用通孔26から多孔質真空チャック22に対して流体を流しながら洗浄を行う。多孔質真空チャックを、洗浄液に対して相対的に、少なくとも前記多孔質真空チャックの厚さ以上に、上下方向に往復移動させた状態で、超音波振動を印加することが好ましい。
請求項(抜粋):
被研磨対象物を多孔質真空チャックに吸着させて研磨を行う研磨装置の洗浄方法において、少なくとも前記多孔質真空チャックを洗浄液に浸漬し、超音波振動を印加して洗浄を行うことを特徴とする研磨装置の洗浄方法。
IPC (5件):
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 321 ,  B08B 3/12 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/68
FI (5件):
H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 321 A ,  B08B 3/12 A ,  B24B 37/04 E ,  H01L 21/68 P
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る