特許
J-GLOBAL ID:200903063951751453

反射防止層を基材に形成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-298106
公開番号(公開出願番号):特開平7-151904
出願日: 1993年11月29日
公開日(公表日): 1995年06月16日
要約:
【要約】【構成】非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料の液または非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。【効果】本発明方法は連続生産性に優れ、薄膜の膜厚偏差が小さい反射防止層を基材に容易に形成することができる。
請求項(抜粋):
薄膜材料の液または薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。
IPC (3件):
G02B 1/11 ,  B05D 5/06 ,  C08J 7/04
引用特許:
審査官引用 (13件)
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