特許
J-GLOBAL ID:200903063964528265

改良地盤造成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 橋本 剛 ,  小林 博通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-317873
公開番号(公開出願番号):特開2007-126817
出願日: 2005年11月01日
公開日(公表日): 2007年05月24日
要約:
【課題】コストの低減を図りながら不同沈下を起こすことのない改良地盤造成方法を提供する。【解決手段】現位置土と固化材であるセメントおよび空隙形成材である気泡の三者を現位置にて撹拌混合して流動性を有する気泡混合土を製造し、この気泡混合土をもって地盤を造成する工法である。気泡混合土を製造するべく撹拌混合処理を施す改良柱体1相当部の面積よりもその改良柱体1の面積を含みつつ当該箇所から溢れ出た気泡混合土が占有する改良土層7の面積の方が大きくなるようにその気泡混合土をもって改良地盤造成体38を造成する。単一の改良地盤造成体38の垂直断面形状が略T字状のものとなるように造成する。【選択図】図12
請求項(抜粋):
現位置土と固化材および空隙形成材の三者を現位置にて撹拌混合して流動性を有する空隙形成材混合土を製造するとともに、この空隙形成材混合土をもって地盤を造成するに際し、 空隙形成材混合土を製造するべく撹拌混合処理を施す撹拌混合箇所の面積よりもその撹拌混合箇所の面積を含みつつ当該撹拌混合箇所から溢れ出た空隙形成材混合土が占有する面積の方が大きくなるようにその空隙形成材混合土をもって改良地盤を造成することを特徴とする改良地盤造成方法。
IPC (3件):
E02D 3/12 ,  E02D 27/26 ,  E02D 27/34
FI (3件):
E02D3/12 102 ,  E02D27/26 ,  E02D27/34 Z
Fターム (8件):
2D040AB05 ,  2D040BA13 ,  2D040BB01 ,  2D040BD03 ,  2D040BD05 ,  2D040CA01 ,  2D040CA10 ,  2D046DA17
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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