特許

J-GLOBAL ID：200903064009357568

耐腐食性静電チャック

発明者： シャモイル シャモイリアン ,  マヌーチャー ビラング ,  セミョン シャースティンスキー ,  サッソン ソメクー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-033877
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055903
出願日： 1995年02月22日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 ペデスタル端部を越えて延びた静電積層ストラップ領域を除去することにより、プラズマに晒される静電積層領域を減少すること。【構成】 静電チャックは、半導体基板(8)を処理チャンバ内の所定位置に固定するために設けられる。無反応性ガスはペデスタルを通じてチャックの誘電部分の端部近傍領域に接続され(ported)、誘電部分の端部を処理領域により生じる腐食から保護する。

請求項（抜粋）：

電極と、前記電極上に配置され、その上に基板を受容し、かつ、処理チャンバに露出する露出部分を有する第1電気絶縁体と、前記露出部分にマスクガスを供給するマスクガス手段と、を備える静電チャック。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  B23Q 3/15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 静電チャック及びこの静電チャックを備えたプラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-204801   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
• 特開平4-010528
  
• 気相成長装置及び装置内のクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-223906   出願人：株式会社東芝