基板処理装置、並びに基板搬送装置及び基板移載装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-068201
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270523
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】メンテナンス時の作業性が良く、処理ユニットの配置の自由度が高い基板処理装置を提供すること。【解決手段】ユニット配置部10は、最下部に、ケミカルキャビネット11を備え、この上側であって装置の4隅には、液処理ユニットとして、基板にレジスト被膜を形成する塗布処理ユニットSC1、SC2と、露光後の基板に現像処理を行う現像処理ユニットSD1、SD2とが配置されている。さらに、これらの液処理ユニットの上側には、基板に熱処理を行う多段熱処理ユニット20が装置の前部及び後部に配置されている。なお、装置の前側であって塗布処理ユニットSC1、SC2の間には、基板処理ユニットとして、基板に純水等の洗浄液を供給して基板を洗浄する洗浄処理ユニットSSが配置されている。

請求項（抜粋）：

鉛直方向に移動可能であるとともに鉛直軸回りに回転可能な基板搬送手段と、前記基板搬送手段の周囲に配置され、基板に所定の処理液による処理を行う複数の液処理ユニットと、前記複数のうちの1つ以上の液処理ユニットの上方に配置され、基板に熱処理を行う熱処理ユニットとを備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 569 D

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-024095 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-261671 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-306309 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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