特許

J-GLOBAL ID：200903064106188711

露光方法及び装置

発明者： 諸星 洋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-270751
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111579
出願日： 2002年09月17日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】投影光学系の残存収差による像質劣化を抑え、所望のパターンを形成することができる解像度に優れた露光方法及び装置を提供する。【解決手段】マスクに形成された所望のパターンを投影光学系を介して被処理体に投影する露光方法であって、前記マスクを照明する有効光源の領域が複数に分割された点光源において、前記投影光学系の波面収差をZernike多項式に展開した場合のZerike係数の変化に対する前記所望のパターンの像質の変化の敏感度を表すZernike敏感度係数を求めるステップと、前記Zernike敏感度係数に基づいて、前記点光源の強度によって有効光源分布を決定するステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクに形成された所望のパターンを投影光学系を介して被処理体に投影する露光方法であって、 前記マスクを照明する有効光源の領域が複数に分割された点光源において、前記投影光学系の波面収差をZernike多項式に展開した場合のZerike係数の変化に対する前記所望のパターンの像質の変化の敏感度を表すZernike敏感度係数を求めるステップと、 前記Zernike敏感度係数に基づいて、前記点光源の強度によって有効光源分布を決定するステップとを有することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 516Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D

Fターム (6件)：

5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光強度分布シミュレーション方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-009011   出願人：日本電気株式会社
• 照明を最適化する方法および投影結像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-128796   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション