特許
J-GLOBAL ID：200903064177477315
紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-024969
公開番号（公開出願番号）：特開平7-215731
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 エキシマランプ、重水素ランプ、キセノンランプ、水銀ランプ等の波長150nm〜400nm域の紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびそれの製造方法を提供する。【構成】 遷移金属元素各々の含有量が50wtppb以下、アルカリ金属元素およびアルカリ土類金属元素各々の含有量が100wtppb以下、非移動性OH基濃度が5wtppm〜1,000wtppm、仮想温度が900°C〜1,300°Cであり、さらに好ましくは酸素ガス放出量が5×1018分子数/m2以下である紫外線ランプ用高純度シリカガラス、およびけい素化合物から火炎加水分解法により合成された高純度シリカガラスまたは高純化処理をした結晶質シリカ粉を火炎ベルヌイ法または電気加熱溶融法によりガラス化した高純度シリカガラス。
請求項（抜粋）：
遷移金属元素各々の含有量が50wtppb以下、アルカリ金属元素およびアルカリ土類金属元素各々の含有量が100wtppb以下、非移動性OH基濃度が5wtppm〜1,000wtppmであり、かつ仮想温度が900°C〜1,300°Cであることを特徴とする紫外線ランプ用高純度シリカガラス。
IPC (5件)：
C03C 3/06
, C03B 8/04
, C03B 19/09
, C03B 20/00
, H01J 61/30
