特許
J-GLOBAL ID：200903064213521962
スペックル低減装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-111555
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296503
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】 照明面に現れるスペックルパターンを低減して均一照明を得ることができるスペックル低減装置を提供する。【解決手段】 偏光面が45°回転した直線偏光であるレーザ光1を第1の偏光ビームスプリッタ4-1に入射してP偏光成分とS偏光成分とに分割し、P偏光成分を透過するとともにS偏光成分を反射することにより両偏光成分を等分に分割し、P偏光成分は直接、S偏光成分は折り返しプリスム6-1を介してP偏光の光路長との間にコヒーレンス長以上の光路差を作って第2の偏光ビームスプリッタ5-1にそれぞれ入射し、この第2の偏光ビームスプリッタ5-1の出力としてコヒーレンス長以上ずれた2種類の偏光成分を有する可干渉性のないレーザ光1を得るようにしたものである。
請求項（抜粋）：
入射したレーザ光を、一方は透過し、他方は反射することにより分割する第1の偏光ビームスプリッタと、第1の偏光ビームスプリッタを透過したレーザ光と反射したレーザ光とを合成して出力する第2の偏光ビームスプリッタと、第1の偏光ビームスプリッタで反射して分割したレーザ光が第2の偏光ビームスプリッタに入射するよう、このレーザ光の光路を変更するとともに、第1の偏光ビームスプリッタから反射されて第2の偏光ビームスプリッタに至るレーザ光の光路長が、第1の偏光ビームスプリッタを透過して直接第2の偏光ビームスプリッタに至るレーザ光の光路長よりもコヒーレンス長(光速c/スペクトル幅Δν)以上長くなるようにする光路変更手段とを有することを特徴とするスペックル低減装置。
IPC (4件)：
G02B 27/28
, G02B 5/30
, G03B 21/14
, G03B 27/54
G02B 27/28 Z
, G02B 5/30
, G03B 21/14 A
, G03B 27/54
2H049BA05
, 2H049BA06
, 2H049BB03
, 2H049BB61
, 2H049BC21
, 2H099AA00
, 2H099BA09
, 2H099CA02
, 2H099CA08
, 2H099DA05
, 2H109AA12
, 2H109AA29
, 2H109AA58
, 2H109AA80
, 2H109AB32
, 2H109AB48
