特許
J-GLOBAL ID：200903064304140163

基板洗浄装置

発明者：
西村 讓一

西村 讓一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-112895
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281491
出願日： 2007年04月23日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】簡易な構成であってかつフットプリントの小さい基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板洗浄装置1は、カセットC1,C2を載置するための載置ステージ10と、基板Wに洗浄処理を行う洗浄ユニットSS1,SS2と、搬送ロボットTRとを備えている。搬送ロボットTRは、搬送アーム45によってカセットC1から未処理の基板Wを取り出し、洗浄ユニットSS1(SS2)に搬入し、処理後の基板WをカセットC2に収納する。搬送ロボットTRは、基板Wを保持した搬送アーム45を反転させることができ、これによって基板Wの表裏を洗浄することができる。基板Wを反転させるためだけの特別な反転ユニットが不要となるため、装置のフットプリントを小さくすることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に洗浄処理を行う洗浄処理手段と、前記洗浄処理手段に基板を搬入するとともに前記洗浄処理手段から基板を搬出する搬送手段とを備えた基板洗浄装置であって、 前記搬送手段は、基板を保持する搬送アームと、前記搬送アームに基板を保持させた状態にて当該搬送アームを180°反転させる反転駆動部とを備え、 前記搬送手段は、搬送過程にて基板を反転させることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (6件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  G11B 7/26
FI (7件)：
H01L21/304 648B ,  H01L21/68 A ,  H01L21/68 S ,  B65G49/07 E ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  G11B7/26 501
Fターム (36件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  5D121BA01 ,  5D121BB34 ,  5D121BB38 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5D121JJ03 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA10 ,  5F031GA14 ,  5F031GA15 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA23 ,  5F157AA73 ,  5F157AA82 ,  5F157AB14 ,  5F157AB63 ,  5F157AB82 ,  5F157CD28 ,  5F157CF02 ,  5F157DB45 ,  5F157DC41
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM