特許
J-GLOBAL ID:200903064477288670

無電解めっき方法、および、無電解めっき浴

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-011959
公開番号(公開出願番号):特開2000-212761
出願日: 1999年01月20日
公開日(公表日): 2000年08月02日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 めっき浴の成分を補充せずに、めっき開始時に必要な量だけを添加することによって、一度のめっき処理ごとにめっき浴の成分を使い切る、無電解銅めっき浴。【解決手段】 無電解めっき浴を用意する工程における無電解めっき浴の還元剤の含有量を、前記無電解めっきを行う工程でのめっき終了時に還元剤が消費し尽くされる量とした、金属イオン、錯化剤、還元剤、PH調整剤を含む無電解めっき浴を用意する工程と、前記無電解めっき浴を用いて無電解めっきを行う工程とを有する、無電解めっき方法。
請求項(抜粋):
金属イオン、錯化剤、還元剤、pH調整剤を含む無電解めっき浴を用意する工程と、前記無電解めっき浴を用いて無電解めっきを行う工程とを有する無電解めっき方法において、前記無電解めっき浴を用意する工程における無電解めっき浴の還元剤の含有量を、前記無電解めっきを行う工程でのめっき終了時に還元剤が消費し尽くされる量としたことを特徴とする無電解めっき方法。
Fターム (9件):
4K022AA04 ,  4K022BA08 ,  4K022CA06 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  4K022DB06 ,  4K022DB13 ,  4K022DB24 ,  4K022DB28
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特公昭36-009063
  • 特公昭39-009454
  • 特開昭57-079166
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