特許
J-GLOBAL ID：200903064505217369
マイクロミラー素子の製造方法およびこれにより製造されるマイクロミラー素子
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-249695
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057574
出願日： 2001年08月20日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 材料基板の厚み方向の中間に正確に位置しつつ、より高精度の厚み寸法を有する薄肉のトーションバーを有するマイクロミラー素子の製造方法、およびこれにより製造されたマイクロミラー素子を提供すること。【解決手段】 複数のシリコン層20,21および少なくとも1つの中間層160を含む積層構造を有する材料基板8において、ミラー形成部と、フレーム部と、トーションバーとを備えるマイクロミラー素子を製造するにあたり、シリコン層20に対してエッチング処理を行うことによって、ミラー形成部よりも薄肉であって中間層に接するプレトーションバーT’を形成する工程と、プレトーションバーT’に接する中間層160を除去することによってトーションバーTを形成する工程とを行うこととした。
請求項（抜粋）：
複数のシリコン層および少なくとも1つの中間層を含む積層構造を有する材料基板において、ミラー形成部と、フレーム部と、トーションバーとを備えるマイクロミラー素子を製造するための方法であって、前記シリコン層に対してエッチング処理を行うことによって、前記ミラー形成部よりも薄肉であって前記中間層に接するプレトーションバーを形成する工程と、前記プレトーションバーに接する中間層を除去することによってトーションバーを形成する工程と、を含むことを特徴とする、マイクロミラー素子の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 26/08
, B81B 3/00
, B81C 1/00
G02B 26/08 E
, B81B 3/00
, B81C 1/00
2H041AA14
, 2H041AA16
, 2H041AB14
, 2H041AC06
, 2H041AZ02
, 2H041AZ05
, 2H041AZ08
