特許

J-GLOBAL ID：200903064766153643

ポジ型感光性樹脂及び新規ジチオール化合物

発明者： 三田 孝仁
出願人/特許権者： 丸善石油化学株式会社
代理人 (1件)： 小林 雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-280353
公開番号（公開出願番号）：特開2006-091762
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：

【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 【解決手段】 本発明のポジ型感光性樹脂は、一般式(1)【化1】で表される構造を高分子主鎖に有することを特徴とし、本発明のジチオール化合物は、一般式(2)【化2】で表されることを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によって酸解離性保護基が解離し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するポジ型感光性樹脂であって、一般式(1)

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  C07C 323/52 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  C07C323/52 ,  H01L21/30 502R

Fターム (19件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB20 ,  2H025CB41 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006TA04 ,  4H006TB52

引用特許：

出願人引用 (3件)

• フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-227522   出願人：現代電子産業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-018189   出願人：信越化学工業株式会社
• フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-252762   出願人：現代電子産業株式会社