特許

J-GLOBAL ID：200903057897566530

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパタ-ン形成方法

発明者： 渡辺 淳 ,  渡辺 修 ,  武田 隆信 ,  畠山 潤 ,  大澤 洋一 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-018189
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214587
出願日： 1999年01月27日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【解決手段】 (A)酸との反応によりアルカリ可溶性となる樹脂の間を三級エステル構造を有する有機基で架橋してなり、酸により該架橋が切断される高分子化合物、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射性酸発生剤、(C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【効果】 本発明のポジ型レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性、再現性にも優れている。

請求項（抜粋）：

(A)酸との反応によりアルカリ可溶性となる樹脂の間を三級エステル構造を有する有機基で架橋してなり、酸により該架橋が切断される高分子化合物、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射線酸発生剤、(C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (20件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025CB06 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB53 ,  2H025CC03 ,  2H025EA04 ,  2H025FA07 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平3-241355
  
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-316888   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-272803   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-221190   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-270685   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-318559   出願人：ジェイエスアール株式会社