特許
J-GLOBAL ID：200903064807933101
リソグラフィ装置および装置調整方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-234445
公開番号（公開出願番号）：特開2005-064514
出願日： 2004年08月11日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】リソグラフィ投影装置における高精度の平坦度を要する基板の支持は、基板テーブルWTに置いてチャックの上に突起のアレイを有する支持テーブルを載せ、それらの突起の上端が形成する支持面によって行う。これら突起間の固有の高さは勿論、チャックと支持テーブルを組合せた際に起る凹凸も基板の平坦度に影響するので、投影装置の実際の使用状態で平坦度を改善すること。【解決手段】検出器がどの突起の高さが異常であるかを検出し、その異常の程度に応じて、制御ユニットの制御の下で、高さ調整装置によって異常突起に材料を付加および/または削除して突起の高さを均一化する。この作業を投影装置の実際の使用状態で行うので、組立による凹凸を除去することができる。この方法は、基板だけでなくマスク等の支持にも適用できる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを用意し、前記ビームをパターン化しおよび上記パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するためのビーム生成システム、
物品をその物品の平らな表面が前記投影ビームの伝播方向に直角な所定の平面内にあるように支持するための支持テーブルで、支持面および前記支持面から伸びる突起のアレイを有し、上記物品を前記突起で支持するようになっていて、各突起の少なくとも上端が実質的に一体の突起材料で出来ているテーブル、を含むリソグラフィ投影装置であって、
前記突起のそれぞれの一つの、前記物品の表面平坦度に影響する高さ異常を検出するための検出器、
前記支持テーブルが前記投影装置で動作可能であるとき、前記個々の突起の前記突起材料の高さを修正するために個々の突起に独立に作用するように構成した位置選択性高さ調整装置、
前記検出器と前記高さ調整装置の間に結合され、且つ前記突起のそれぞれの一つのそれぞれ検出した高さ異常に対応して前記突起材料の前記高さを調整するために上記高さ調整装置を制御するように構成した制御ユニットを含むことを特徴とする投影装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 503B
, H01L21/68 N
5F031CA02
, 5F031CA07
, 5F031HA08
, 5F031HA53
, 5F031KA06
, 5F031MA27
, 5F031PA10
, 5F031PA14
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC05
, 5F046CC08
, 5F046CC09
, 5F046CC11
