特許
J-GLOBAL ID：200903064836565960
フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346218
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166470
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：
【要約】【課題】 感光性及び加工性に優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記成分(A)(a)1分子中に平均1個の水酸基と平均1個のエポキシ基を含有する数平均分子量74〜500のエポキシ化合物1モルに対して、1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量78〜2000のカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
下記成分(A)(a)1分子中に平均1個の水酸基と平均1個のエポキシ基を含有する数平均分子量74〜500のエポキシ化合物1モルに対して、1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量78〜2000のカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/027 513
, G03F 7/027 515
, G03F 7/004 512
G03F 7/027 513
, G03F 7/027 515
, G03F 7/004 512
2H025AA01
, 2H025AA13
, 2H025AB15
, 2H025AB17
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC66
, 2H025BC74
, 2H025BC81
, 2H025BC83
, 2H025BC85
, 2H025BC86
, 2H025BC92
, 2H025BJ10
, 2H025CA00
, 2H025FA10
, 2H025FA17
