特許
J-GLOBAL ID：200903064842785050

電子ビーム励起プラズマを用いた窒化処理装置

発明者：
嵩 良徳

嵩 良徳 について

, 
龍治 真

龍治 真 について


出願人/特許権者：
川崎重工業株式会社

川崎重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 関 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-397584
公開番号（公開出願番号）：特開2002-194527
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：
【要約】【課題】 被処理部材表面における窒化層の生成速度が大きく、かつ窒化物層や拡散層の制御が可能な窒化処理装置を提供する。【解決手段】 放電プラズマを生成する放電室と、処理材料を載置する試料台37と原料ガス供給口を設けた窒化処理室3とを備え、窒化処理室内に加速電極31を設けて、加速電極により放電プラズマから電子を窒化処理室に引き出し加速して室内の窒素を含む原料ガスをプラズマ化して処理材料35の表面に作用させる。窒素ガスを原料ガスとして使用すること、処理材料は電子の流入方向に対して平行に、かつ電子流の中心から離れて配置されることが好ましい。
請求項（抜粋）：
放電プラズマを生成する放電室と、処理材料を載置する試料台と窒素を含む反応ガスを供給するガス供給口を設けた窒化処理室とを備える窒化処理装置であって、前記窒化処理室内に加速電極を設けて、該加速電極により前記放電プラズマから電子を前記窒化処理室に引き出し加速して前記反応ガスをプラズマ化して前記処理材料の表面に作用させることを特徴とする窒化処理装置。
IPC (4件)：
C23C 8/36 ,  H01J 37/077 ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/24
FI (4件)：
C23C 8/36 ,  H01J 37/077 ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/24
Fターム (2件)：
4K028BA02 ,  4K028BA21
引用特許：
審査官引用 (4件)
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