特許
J-GLOBAL ID：200903064847274593
露光装置並びにレチクル形状測定装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-138993
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342900
出願日： 2003年05月16日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】レチクルのフォーカス位置の計測においてレチクルパターンの影響を排除し、良好な解像度による露光処理の実行を可能とする。【解決手段】ステージに搭載された、複数のチップが配置されたレチクル上の複数のチップの対応個所のそれぞれについてフォーカス位置を計測し、計測されたフォーカス位置に基づいて、ステージの移動方向における当該レチクルの撓み形状を推定する。ここで、レチクル上のフォーカスの計測位置は、入力装置804から入力されるショットサイズ901、チップ分割情報902、チップ内計測ポイント903によって設定される。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
レチクルを搭載し移動するステージと、
前記ステージに搭載されたレチクルの表面のフォーカス位置を計測するセンサと、
前記ステージを移動しながら前記センサによる計測を実行することにより前記レチクルの表面の複数箇所のフォーカス位置を計測する制御手段と、
前記制御手段における前記センサによる計測位置を指定する指定手段とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 526B
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516A
5F046AA17
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046DA06
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC04
