特許

J-GLOBAL ID：200903064869616463

基板処理装置

発明者： 廣江 敏朗
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-129808
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330193
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 基板処理装置のスループットを向上させる。【解決手段】 基板処理装置は、基板に処理を施す複数の処理部14,15,16,31を有する基板処理装置であって、第1搬送ロボットR1と、第2搬送ロボットR2とを備えている。第1搬送ロボットR1は、複数の処理部14,15,16に対して基板を収容したキャリア3の搬入又は搬出を行う。第2搬送ロボットR2は、第1搬送ロボットR1が基板を収容したキャリア3の搬入又は搬出を行う処理部14,15,16に対して、第1搬送ロボットR1とは独立に基板を収容したキャリア3の搬入又は搬出を行う。

請求項（抜粋）：

基板に処理を施す複数の処理部を有する基板処理装置であって、前記複数の処理部に対して基板の搬入又は搬出を行う第1基板搬送手段と、前記第1基板搬送手段が基板の搬入又は搬出を行う処理部に対して、前記第1基板搬送手段とは独立に基板の搬入又は搬出を行う第2基板搬送手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/304 648 B ,  H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016979   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-024095   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウエット処理装置およびウエット処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-319397   出願人：株式会社日立製作所