処理装置及び処理装置内の気体の制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小原肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-230221
公開番号（公開出願番号）：特開平11-063604
出願日： 1997年08月12日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】処理装置内の清浄室5内にはクリーンルームRの施設領域R2の空気をそのまま導入し、清浄室5内のクリーン度を保持しているが、施設領域R2の空気にはパーティクルや不純物ガス等が含まれていることが多い。パーティクルは清浄室5内の高性能フィルタで除去できても不純物ガスは除去できず、不純物ガスがウエハ表面に付着し、その後のウエハの処理を阻害し、歩留を低下させる。また、施設領域R2の空気中の水分がその後ロードロック室3内に流れ込んでその壁面に付着し、ロードロック室3の真空排気時間が長くなる。【解決手段】本発明の処理装置内の気体の制御方法は、不活性ガスをその供給源からキャリア収納室12とロードロック室13間に介在する清浄室14内に導入し、清浄室14内の圧力を正圧に保持しながら不活性ガスを清浄室14内でフィルタを通して循環させることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理体搬送用容器を収納する容器収納室と、この容器収納室内の被処理体搬送用容器に対して被処理体を搬出入する搬送装置が配設されたロードロック室と、このロードロック室と上記容器収納室間に介在する清浄室とを備え、クリーンルーム内で隔壁によって共用領域から区画された装置領域内に設置された処理装置内の気体の制御方法において、上記クリーンルーム内の共用領域から清浄な空気を上記清浄室内に導入し、上記清浄室内の圧力を正圧に保持しながら導入空気をフィルタを通して循環させることを特徴とする処理装置内の気体の制御方法。

IPC (2件)：

F24F 7/06 , H01L 21/02

FI (2件)：

F24F 7/06 C , H01L 21/02 D

引用特許：

出願人引用 (4件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-107766 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
ウエハ保管設備
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-009401 出願人：神鋼電機株式会社
特開平4-147609

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