大領域リソグラフィのデバイスおよび方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：吉武賢次 , 永井浩之 , 岡田淳平 , 勝沼宏仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-541931
公開番号（公開出願番号）：特表2007-513509
出願日： 2004年11月03日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：

構造化された表面を有するテンプレート(10)から放射重合可能流動体(14)の表面層を保有する基板(12)へパターンを転送する装置および方法。装置は、対向する表面(104、105)を有する第1の主要部分(101)および第2の主要部分(102)、上記主要部分の間の間隔(115)を調整する手段、上記構造化された表面が上記表面層と対面するように上記間隔の中で上記テンプレートおよび基板を相互に平行した係合関係に支持する支持手段(106)、上記間隔の中へ放射を放出するように構成された放射源(110)を備える。キャビティ(115)は、上記テンプレートまたは基板を係合するように構成された可撓性膜(113)を含む第1の壁を有し、上記キャビティの中に存在する媒体へ調整可能超過圧力を加える手段(114、116)が設けられ、基板とテンプレートとの間の接触面の全体にわたって均一に分布する力が得られる。

請求項（抜粋）：

構造化された表面を有するテンプレートから放射重合可能流動体の表面層を保有する基板へパターンを転送する装置であって、対向する表面を有する第1の主要部分および第2の主要部分、該主要部分の間の間隔を調整する手段、前記構造化された表面が前記表面層と対面するように前記間隔の中で前記テンプレートおよび基板を相互に平行な係合関係に支持する支持手段、前記間隔の中へ放射を放出するように構成された放射源、前記テンプレートまたは基板を係合するように構成された可撓性膜を含む第1の壁を有するキャビティ、および該キャビティの中に存在する媒体へ調整可能超過圧力を加える手段を備える、装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B29C 39/10 , B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D , B29C39/10 , B29C59/02 Z

Fターム (24件)：

4F204AA44 , 4F204AF01 , 4F204AG03 , 4F204AG05 , 4F204AH33 , 4F204AR02 , 4F204EA03 , 4F204EB01 , 4F204EB11 , 4F204EF01 , 4F204EK18 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AR02 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (5件)

構造物の製造に関する装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-544087 出願人：オブドゥカトアクティエボラーグ
インプリントリソグラフィー用移動ステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-267764 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
特開平2-289311

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