特許

J-GLOBAL ID：200903065141159380

遠紫外線感受性フォトレジスト

発明者： リチャード エム.ラザラス ,  ジョン ジェイ.グランウォルド ,  シャバ ガル ,  シュラミット ヒルシュ
出願人/特許権者： モートン インターナショナル,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-035996
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011829
出願日： 1993年02月25日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】 レジストの露光と後露光焼付けの間の長く保たれた時間の間に改良されたCD安定性を示すポジティブワーキング遠紫外線感受性レジストを提供する。【構成】 水に不溶性であるが通常水性アルカリ性媒体に可溶であるポリマー、化学線に露光されると酸を発生する光開始剤、及び前記アルカリ性媒体中の通常可溶性のポリマーの溶解を防ぐ酸不安定な化合物である多価フェノールと3級ブチルアルコールの混合炭酸エステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

水に不溶性であるが通常水性アルカリ性媒体に可溶であるポリマー、化学線に露光されると酸を発生する光開始剤、及び前記アルカリ性媒体中の通常可溶性のポリマーの溶解を防ぐ酸不安定な化合物である多価フェノールと3級ブチルアルコールの混合炭酸エステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

• 特開昭63-027829
  
• 特開昭63-250642
  
• 特開昭64-035433
  
• 特開平2-018564
  
• 特開昭60-150047
  
• 特開昭62-229139
  
• 特開平3-192361
  
• 特開平3-215863
  
• 特開昭63-231442
  
• 特開平3-152543
  
• 特開平4-217251
  
• 特開平4-295472
  
• パタン形成材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-227820   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 酸不安定基を含有する感放射線混合物およびレリーフパターン、レリーフ画像の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-061566   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト