特許
J-GLOBAL ID：200903065214850052
微細なパターンが高転写された射出成形体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-145452
公開番号（公開出願番号）：特開2001-323074
出願日： 2000年05月17日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：
【要約】【課題】金型キャビティー内に刻まれた微細なパターンを射出成形により高転写させることにより、耐熱性、耐湿熱性に優れた光学材料として使用可能な射出成形体を提供する。【解決手段】環状オレフィン樹脂または環状オレフィン樹脂と特定の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を用いて射出成形することにより、微細なパターンが高転写された射出成形体を得る。
請求項（抜粋）：
(A)環状オレフィン系熱可塑性樹脂、または(A)環状オレフィン系熱可塑性樹脂および(B)ポリスチレン換算重量平均分子量が20000以下で常温で固体の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を成形してなる微細なパターンが高精度で転写された射出成形体。
IPC (5件)：
C08J 5/00 CEZ
, B29C 45/16
, C08L 57/02
, C08L 65/00
, B29K 45:00
C08J 5/00 CEZ
, B29C 45/16
, C08L 57/02
, C08L 65/00
, B29K 45:00
4F071AA39
, 4F071AA69
, 4F071AF45
, 4F071AF57
, 4F071AH19
, 4F071BB05
, 4F071BC03
, 4F071BC04
, 4F071BC06
, 4F206AA12
, 4F206AF16
, 4F206AH73
, 4F206JA07
, 4F206JB28
, 4F206JF01
, 4F206JQ81
, 4J002BA012
, 4J002CE001
, 4J002FD070
, 4J002GP00
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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