特許
J-GLOBAL ID：200903065259093279
レーザー処理装置及びレーザー処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 俊夫
, 水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-316559
公開番号（公開出願番号）：特開2006-122982
出願日： 2004年10月29日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】 チャックが配置されたカップを水平方向に移動させ、ウエハの表面に液体を介在させてレーザー光により例えばダイシングを行う装置において、レーザー処理の面内均一性を向上させること。【解決手段】 レーザー光を発光するための光発振部41と光発振部41から発光されたレーザー光をウエハ表面に結像するための光学系ユニット45とを含む光照射部4から、ウエハ表面に液体を供給した状態でレーザー光を照射して所定の処理を行うにあたり、変位計5によりウエハW表面と光学系ユニット45との距離M1を計測し、この計測値に基づいて光学系ユニット45のウエハ表面からの高さ位置を補正して所定のレーザー処理を行う。ウエハ表面に凹凸がある場合でも、ウエハ表面と光学系ユニット45との距離が揃えられるので、レーザー光が均一にウエハに照射されて、面内均一性の高い処理を行うことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板保持部に水平に保持された基板の表面に液体を供給した状態でレーザー光を照射して、当該表面に対して処理を行うためのレーザー処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に対してレーザー光を発光するための光発振部と、この光発振部から発光されたレーザー光を前記基板表面に結像するための結像部と、を含む光照射部と、
前記基板の表面におけるレーザー光の処理位置を移動させるために、前記基板保持部と前記光照射部とを相対的に水平方向に移動させるための移動機構と、
前記結像部を基板表面に対して接離自在に保持するための昇降機構と、
前記基板保持部に保持された基板表面の複数箇所の高さを計測して基板表面の高さマップを得る高さマップ取得手段と、
IPC (6件)：
B23K 26/04
, B23K 26/00
, B23K 26/03
, B23K 26/14
, B23K 26/38
, H01L 21/301
B23K26/04 C
, B23K26/00 M
, B23K26/03
, B23K26/14 Z
, B23K26/38 320
, H01L21/78 B
4E068AE01
, 4E068CA11
, 4E068CA12
, 4E068CA17
, 4E068CC02
, 4E068CH08
, 4E068DA09
, 4E068DA10
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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