特許
J-GLOBAL ID：200903065260190709

レーザリソグラフィ用のマルチプレクサ

発明者：
オザルスキー ロバート ジー

オザルスキー ロバート ジー について

, 
エルショフ アレクサンダー アイ

エルショフ アレクサンダー アイ について


出願人/特許権者：
サイマー, インコーポレイテッド

サイマー, インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559464
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520837
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：
【要約】本発明は、2又はそれ以上のレーザが、レーザビームマルチプレクサ(72)を介して2又はそれ以上のリソグラフィ露光ツール(11乃至13)のためにレーザ照射を提供するレーザリソグラフィシステムに関する。マルチプレクサ(72)は、異なる反射率の表面を備えたマルチ反射率ミラーを各々有する種々のミラー装置(41乃至63)と、少なくとも1つのレーザからのレーザビームを横切り、少なくとも1つの露光ツール(11乃至13)にそのレーザビームの一部を差し向けるための表面の一つを位置決めするための調整機構とを包含する。
請求項（抜粋）：
A)複数のレーザと、B)複数のレーザリソグラフィ露光ツールと、C)複数のミラーデバイスを備えたレーザビームマルチプレクサとを有し、 各ミラーデバイスが、 1)複数の反射表面を備えたマルチ反射ミラーを備え、 各表面は異なる反射率であり、 2)前記複数のレーザの少なくとも1つからのレーザビームと交差するように前記反射表面の一つを位置決めし、前記複数の露光ツールの少なくとも一つに向かって前記ビームの少なくとも一部を反射する調整機構とを備え、たことを特徴とするレーザリソグラフィシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G02B 26/08 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
G02B 26/08 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 514 Z
Fターム (13件)：
2H041AA03 ,  2H041AA18 ,  2H041AA26 ,  2H041AB13 ,  2H041AB16 ,  2H041AC04 ,  2H041AZ05 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB02 ,  5F046DB01
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-322920   出願人：株式会社ニコン
  • 露光照明装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-304882   出願人：ソニー株式会社
  • 特開平1-191350

前のページに戻る

TOP

BOTTOM