特許
J-GLOBAL ID：200903065274095202
微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
園部 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-227281
公開番号（公開出願番号）：特開2009-059973
出願日： 2007年09月03日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】選択領域の方位、位置合わせの精度、再現性が確保し易く、特性を変えた量子ドットを近接領域に交互に配列させるなどの特異な構造をモノリシックに作ることができる微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法を提供すること。【解決手段】基板30が搭載され、回転方向の角度を規定することのできる回転規制手段44を有する試料ホルダ40と、基板30に選択的に結晶32を成長させるための少なくとも1つ以上の開口を有するマスク10と、マスク10が搭載され、かつ回転規制手段44に接合して回転方向と半径方向との試料ホルダ40との相対位置が決まる位置固定手段29を有するマスクホルダ20と、を備える微細構造素子製造装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板が搭載され、回転方向の角度を規定することのできる回転規制手段を有する試料ホルダと、
前記基板に選択的に結晶を成長させるための少なくとも1つ以上の開口を有するマスクと、
前記マスクが搭載され、かつ前記回転規制手段に接合して回転方向と半径方向との前記試料ホルダとの相対位置が決まる位置固定手段を有するマスクホルダと、
を備える微細構造素子製造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5F103AA04
, 5F103BB33
, 5F103DD01
, 5F103GG01
, 5F103HH03
, 5F103LL20
, 5F103RR04
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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