特許
J-GLOBAL ID：200903065357677408
エキシマレーザー用光学材料及びその試験方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石井 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-324773
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152330
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 高パルス数のエキシマレーザー照射や、誘電体バリア放電エキシマランプのように長時間連続的に照射しても、吸収帯の生成のない安定したエキシマレーザー用合成石英ガラス光学材料を提供する。【解決手段】 酸水素火炎の水素と酸素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の条件下で、四塩化珪素を加水分解し、直接堆積ガラス化した合成石英ガラスであって、 OH基を1000ppm以上含有し、かつ、200nmにおける透過率が厚さ10mmで89%以上であるエキシマレーザー用光学材料。
請求項（抜粋）：
四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解する合成石英ガラスの製法において、酸水素火炎の水素と酸素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の存在下で合成したものであり、含有OH基が1000ppm以上であり、かつ、200nmにおける透過率が厚さ10mmで89%以上であることを特徴とするエキシマレーザー用光学材料。
IPC (6件)：
C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G01N 21/59
, G01N 31/00
, H01S 3/034
C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G01N 21/59 Z
, G01N 31/00 Z
, H01S 3/03 G
