特許
J-GLOBAL ID：200903065394946184

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
立石 智隆

立石 智隆 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-236500
公開番号（公開出願番号）：特開2007-053193
出願日： 2005年08月17日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】基板を移動しつつ露光するときにも、液体の流出を防止し、基板を良好に露光することができる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、露光光ELの光路Kを液体LQで満たして基板P上に第1液浸領域LR1を形成する第1液浸システム1と、光路Kに対して第1液浸領域LR1の外側に、第1液浸領域LR1の液体LQの流出を防止するための第2液浸領域LR2を形成する第2液浸システム2とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、 前記露光光の光路を液体で満たして前記基板上に第1液浸領域を形成する第1液浸機構と、 前記光路に対して前記第1液浸領域の外側に、前記第1液浸領域の液体の流出を防止するための第2液浸領域を形成する第2液浸機構と、を備えた露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (10件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DB01 ,  5F046DB10 ,  5F046DB14 ,  5F046DC10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (3件)

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