特許
J-GLOBAL ID:200903065538884189
粒状物体の殺菌方法及びそれに用いる粒状物体殺菌装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-190559
公開番号(公開出願番号):特開2003-000213
出願日: 2001年06月25日
公開日(公表日): 2003年01月07日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】被照射体の全表面に均一かつ完全に殺菌処理でき、処理速度が大きくてコンパクトで信頼性が高い粒状被照射体殺菌装置と粒状の被照射体を完全に殺菌する方法の提供。【解決手段】筒状の被照射体通路を取り囲んで設けられており高真空状態に維持された真空容器内に設けられた環状の陰極から放出された電子を、環状の陽極との間で加速してコーン状の軌道で走行させた後に、環状の電子透過窓を透過させ、透過した電子を筒状の被照射体通路の全周方向からこの筒状の被照射体通路内に向かう方向に偏向させる電子集中手段と、被照射体通路内を回転しながら通過する粒状の被照射体の全表面に万遍無く電子を衝突させて能率よく殺菌する。
請求項(抜粋):
粒状の被照射体を、筒状に構成された被照射体通路内の周辺部分に分布させた状態で、この筒状被照射体通路に沿って移動させつつ、この筒状被照射体通路の外側の全周方向から前記の粒状の被照射体に電子線を照射することを特徴とする粒状被照射体の殺菌方法。
IPC (3件):
A23L 3/26
, G21K 5/04
, G21K 5/10
FI (5件):
A23L 3/26
, G21K 5/04 E
, G21K 5/04 F
, G21K 5/04 S
, G21K 5/10 F
Fターム (6件):
4B021LA44
, 4B021LP10
, 4B021LT02
, 4B021LT08
, 4B021LW09
, 4B021MC01
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
電子線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-110760
出願人:電気興業株式会社
-
電子線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-219899
出願人:日新ハイボルテージ株式会社
前のページに戻る